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未来材料化学デザイン研究所:高導電性酸化還元型レアアースデバイスの開発に成功し研究成果が『ACS Applied Materials & Interfaces』(アメリカ化学会発行)に掲載されました

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2020.10.21

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未来材料化学デザイン研究所:高導電性酸化還元型レアアースデバイスの開発に成功し研究成果が『ACS Applied Materials & Interfaces』(アメリカ化学会発行)に掲載されました

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詳細は下記をご覧ください。

『ACS Applied Materials & Interfaces』